再回到北京。
带着指南亲自与他们进行了秘密谈话，交由他们进行研究。
强调了工作的极端重要性和高度保密性，要求他们潜心钻研，打好基础。
随后，赵四以“盘古计划”特需的名义，协调调拨了极其有限的稀缺物资：
几片试验用高纯硅片、少量特种化学试剂、一台由退役显微镜改造的简易光刻装置、一台老式扩散炉。
设备简陋得可怜，却是从零到一的关键。
赵四分别在北京大学微电子实验室和上海冶金所一间僻静的小仓库里，主持了这两个“微电子学组”的启动会。
没有挂牌，没有记录，只有昏暗的灯光和几张年轻而严肃的面孔。
得益于系统赋予的详尽知识，赵四没有空谈概念，而是直接对照指南进入实质技术指导。
他用粉笔在黑板上勾勒出硅平面工艺的基本流程图。
详细讲解了清洗去离子水纯度要求、氧化炉温度均匀性控制、光刻胶涂覆厚度与转速关系、扩散源浓度与时间温度的匹配等关键工艺控制点。
包含了每个环节可能出现的典型失效模式和对策。
他将系统知识包里的精华，以“国外最新技术动态分析和个人初步实验推演”的形式，深入浅出地传授给这些年轻人。
“同志们，我们的首要目标不是性能多高，而是‘稳定’和‘重复性’。”
赵四强调，“比如，十次工艺循环，能有七次做出参数一致的二极管，就是巨大的成功。”
“要像记录药剂配方一样，精确记录每一次的工艺参数和结果，建立我们自己的基础工艺档案。”
年轻的组员们被如此具体、前沿又极具操作性的指导所吸引，眼中闪烁着兴奋与专注的光芒。
他们虽然不完全明白工作的全部战略意义，但能感受到其分量和深切期望。
启动会结束后，两个秘密的学组便悄无声息地投入了工作。
他们利用极其简陋的条件，从最基础的硅片清洗、氧化层生长开始摸索。
失败是家常便饭，硅片污染、氧化层龟裂、光刻图形模糊问题层出不穷。
但每当他们遇到难以逾越的障碍时，赵四总能凭借特殊渠道，带来一些“最新的国外文献综述”或“个人的分析建议”，往往能一针见血地指出问题所在。
当北京组遇到氧化层不均匀时，赵四提示